SMEE stellt eine neue Generation von Lithografiemaschinen in China vor
Chinas SMEE hat auf einer internationalen Messe ein neues Trockenlithografiesystem der nächsten Generation vorgestellt. Die Anlagen werden bereits für die Produktion von Speicher- und Logikchips eingesetzt.

Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE) hat auf der 9. China International Import Expo offiziell eine neue Generation von Trockenlithografiesystemen vorgestellt.
Diese Neuentwicklung markiert einen weiteren wichtigen Meilenstein im laufenden Programm zur Lokalisierung von Halbleiterausrüstung in China. Die Plattform basiert auf einer proprietären, standardisierten Architektur und unterstützt sowohl I-Line- als auch KrF-Fertigungsprozesse.
- SMEE präsentierte seine Trockenlithografie-Plattform der neuen Generation.
- Unterstützung für fortschrittliche I-Line- und KrF-Technologieprozesse.
- Über 10 Millionen verarbeitete Siliziumwafer bei einer Betriebseffizienz von über 92 %.
- Die Anlagen sind bereits aktiv in chinesischen Chipfabriken im Einsatz.
Technische Merkmale der neuen Lithografie-Plattform
Der Hersteller beansprucht die vollständige, eigenständige Kontrolle über das Design und die Lieferkette der wichtigsten Hardware-Komponenten. Diese umfassende Liste umfasst hochpräzise optische Systeme, Masken- und Wafer-Positionierungsmechanismen sowie automatisierte Materialtransportkomplexe.
Lesen Sie auchKontroverse um Apple-Store-Mitarbeiter und ungewollte Abo-Buchungen erklärtDas Unternehmen gibt an, dass die Gesamtqualität mit führenden ausländischen Alternativen auf dem Markt mithalten kann. Die Schichtausrichtungsgenauigkeit und der Durchsatz der Anlagen nähern sich internationalen Standards an und gewährleisten einen zuverlässigen und stabilen Betrieb in kontinuierlichen Produktionslinien.
Produktionskennzahlen und industrielle Implementierung
Nach Angaben des Herstellers hat das kumulierte Volumen der mit diesen Systemen verarbeiteten Siliziumwafer bereits die Marke von 10 Millionen Einheiten überschritten. Darüber hinaus liegt die effektive Betriebsproduktivität der Ausrüstung konstant über 92 Prozent.
Die Systeme demonstrieren eine stabile Leistung bei verschiedenen technologischen Prozessen und sind für den langfristigen Fertigungseinsatz konzipiert. SMEE berichtet, dass seine Maschinen bereits erfolgreich bei chinesischen Unternehmen im Betrieb sind, die Speicher- und Logik-Mikrochips herstellen.
Strategische Bedeutung für den Binnenmarkt
Das im Jahr 2002 gegründete Unternehmen SMEE ist nach wie vor der einzige inländische Hersteller in China, der in der Lage ist, Trockenlithografiegeräte in Massenproduktion herzustellen und zu liefern. Der Ausbau dieser lokalen Kapazitäten trägt dazu bei, Risiken in der Lieferkette angesichts sich wandelnder globaler Halbleiterbeschränkungen zu mindern.
Quelle: iXBT.com



