SMEE présente une nouvelle génération de machines de lithographie en Chine

Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE) a officiellement dévoilé une nouvelle génération de systèmes de lithographie par voie sèche lors de la 9e édition de la China International Import Expo.

Cette nouvelle avancée marque une étape majeure supplémentaire dans le programme de localisation des équipements pour semi-conducteurs en cours en Chine. La plateforme repose sur une architecture standardisée propriétaire et prend en charge les procédés de fabrication I-line et KrF.

• SMEE a présenté sa nouvelle plateforme de lithographie par voie sèche.
• Prise en charge des procédés technologiques avancés I-line et KrF.
• Plus de 10 millions de wafers de silicium traités avec une efficacité opérationnelle supérieure à 92 %.
• L'équipement est déjà déployé activement dans des usines de puces chinoises.

Caractéristiques techniques de la nouvelle plateforme de lithographie

Le fabricant revendique un contrôle exclusif et total sur la conception et la chaîne d'approvisionnement des composants matériels clés. Cette liste exhaustive comprend des systèmes optiques de haute précision, des mécanismes de positionnement des masques et des wafers, ainsi que des complexes automatisés de manipulation des matériaux.

L'entreprise affirme que la qualité globale équivaut aux principales alternatives étrangères du marché. La précision d'alignement des couches et le débit des équipements se rapprochent des standards internationaux, garantissant un fonctionnement fiable et stable sur les lignes de production continues.

Indicateurs de production et mise en œuvre industrielle

Selon le fabricant, le volume cumulé de wafers de silicium traités à l'aide de ces systèmes a déjà dépassé les 10 millions d'unités. De plus, la productivité opérationnelle effective de l'équipement se maintient constamment au-dessus de 92 pour cent.

Les systèmes affichent des performances stables à travers divers procédés technologiques et sont conçus pour un déploiement industriel à long terme. SMEE indique que ses machines fonctionnent déjà avec succès dans des entreprises chinoises produisant des micro-puces mémoire et logiques.

Portée stratégique pour le marché national

Fondée en 2002, SMEE demeure le seul fabricant national en Chine capable de produire en série et de fournir des équipements de lithographie par voie sèche. Le développement de ces capacités locales contribue à atténuer les risques liés à la chaîne d'approvisionnement dans un contexte d'évolutions des restrictions mondiales sur les semi-conducteurs.